掛鍍鎳添加劑訂購(gòu)
所屬分類(lèi):銅鎳電鍍
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- 發(fā)布日期:2020/06/16
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一.特點(diǎn)
1.具有極佳的快速出光及填平能力,高均鍍能力,低電位覆蓋力佳。
2.鍍層光亮奪目,白亮,應(yīng)力特別低。
3.鍍層結(jié)晶細(xì)致,孔隙率少,防腐性能好。
4.操作溫定,分解產(chǎn)物少,雜質(zhì)容忍度高。
5.適合作為鍍鉻、青銅、金、銀等金屬之光亮鎳底層。
二.鍍液組成及操作條件
組成及操作條件 范圍 標(biāo)準(zhǔn)(一般開(kāi)缸份量)
硫酸鎳 240—320 g/L 270 g/L
氯化鎳 35—55 g/L 50 g/L
硼酸 35—50 g/L 45 g/L
YC-28柔軟劑B劑 8—10 ml/L 8 ml/L
YC-28光亮劑A劑 0.3—0.8 ml/L 0.4 ml/L
YC-28C低泡潤(rùn)濕劑 1—2 ml/L 1 ml/L
PH 3.8—4.5 4.2
使用溫度 50-60℃ 55 ℃
電流密度 50℃:1—6A/d㎡ 5 A/d㎡
60℃:1—8A/d㎡ 5 A/d㎡
電流效率 95—98% 95—98%
沉積速度(55℃,5ASD) 1um/分鐘
三.配制鍍液
注入三分之二的水于代用缸(或預(yù)備槽)中,加熱至66℃。
加入所需的硫酸鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解。
加入碳酸鎳或4%氫氧化鈉溶液,調(diào)整酸堿度(pH值)至5.2。
加入2.5豪升/升雙氧水, 加入前先以水稀釋,攪拌打氣2小時(shí)。
加入活性炭2—4克/升,攪拌數(shù)小時(shí),然后靜置整晚。
用過(guò)濾泵,把鍍液濾入清潔之電鍍槽內(nèi)。
將過(guò)濾泵清洗干凈,然后再填裝活性炭粒(0.2克/升)及助濾劑(0.2克/升)
加入所需之硼酸,攪拌使其完全溶解。
加入稀硫酸,調(diào)整酸堿度(pH值)至3.8—4.2。
用波浪狀的假陰極以低電流密度(0.1—0.4安培/平方分米)連續(xù)電解6小時(shí)以上,或直至低位顏色由暗黑變淺灰色。
檢測(cè)pH值,調(diào)整至標(biāo)準(zhǔn)范圍3.8-4.2。
加入上表中的鎳添加劑后,便可以試鍍。
設(shè)備
鍍 槽 PP膠槽,柔鋼(Mild Steel)缸襯上合適的塑料或其他認(rèn)可的材料。
溫度控制 可用蒸氣,或石英電熱筆加熱。
空氣攪拌 鍍液需要平均而強(qiáng)烈的空氣攪拌,所需的空氣由低壓無(wú)油泵供應(yīng)。
循環(huán)過(guò)濾 鍍液需要連續(xù)循環(huán)過(guò)濾。過(guò)濾泵在1小時(shí)內(nèi)能將鍍液過(guò)濾5至8次。過(guò)濾泵應(yīng)每40小時(shí),放入活性炭0.6克/升,或每8個(gè)工作小時(shí)混入0.2克/升的活性炭粒于助濾粉中。
添加劑的作用和補(bǔ)充
YC28A光亮劑 主要控制鍍層光亮度及填平,與B劑合用能在極短的時(shí)間內(nèi)獲得全光亮的鍍鎳層。
YC28B柔軟劑 具有使鍍層結(jié)晶細(xì)致,減低鍍層內(nèi)應(yīng)力,增加柔軟性,及使低電流密度區(qū)覆蓋力良好。
YC28C低泡潤(rùn)濕劑 防止鍍層產(chǎn)生針孔。多加不會(huì)有發(fā)花等弊病出現(xiàn)。甚稱(chēng)潤(rùn)濕劑之王,是當(dāng)今國(guó)內(nèi)外性能最佳的防針孔劑之一。
補(bǔ)給方法
YC28掛鍍鎳光亮劑 消耗量(1000安培小時(shí))
YC28B柔軟劑劑 90—150 ml/KAH
YC-28A光亮劑 90—150 ml/KAH
YC28C低泡潤(rùn)濕劑 20—40 ml/KAH
四:鍍液的維護(hù)
鍍液必須保持純凈,要防止銅、鐵、鋅和鉻等重金屬雜質(zhì)的污染。建議經(jīng)常補(bǔ)充本司的鍍鎳液綜合除雜劑,這樣可防止重金屬雜質(zhì)的積累。
鍍液可定期(如二個(gè)月左右)用特定的活性炭過(guò)濾機(jī)循環(huán)過(guò)濾4—6小時(shí),這樣可除去有機(jī)物和某些重金屬雜質(zhì)。
光亮劑要勤加少加。平時(shí)A劑和B劑要按1:1比例等量添加。如發(fā)現(xiàn)鍍層張應(yīng)力較大有脆性、深鍍能力不佳和在槽液大處理后,則要單獨(dú)補(bǔ)加YC28B柔軟劑,補(bǔ)加量為開(kāi)缸量的1/3左右。
五:其他
YC28E 鍍鎳液綜合除雜劑 當(dāng)電鍍鋅基鑄件,銅合金件或鋁合金件時(shí),可能會(huì)帶入較多銅或鋅雜質(zhì),而影響電鍍效果,這時(shí)可添加鍍鎳液綜合除雜劑0.5—2 ml/L。
YC28D鍍鎳電流走位劑 使鍍層的厚度及光亮度更為均勻,加強(qiáng)低電流密度區(qū)覆蓋力。只是在新開(kāi)缸或轉(zhuǎn)缸時(shí)加入,沒(méi)有特定消耗量,平時(shí)視工件走位情況而添加。